国际首次提出，应用AlGaN深紫外micro-LED显示技术代替传统DMD，实现无掩膜光刻。

论文发表：

Feng, F., Liu, Y., Zhang, K. et al. High-power AlGaN deep-ultraviolet micro-light-emitting diode displays for maskless photolithography. Nat. Photon. 19, 101–108 (2025).