平台简介

         国创中心(苏州)材料生长创新平台面向新型显示、电力电子、微波射频、深紫外等应用领域,聚焦 GaN、AlN 单晶同质衬底和大尺寸异质衬底的材料和器件的外延生长,提供专业的定制化服务。平台规划五年投入人民币 5 亿元,建设 30 台套 MOCVD 外延研发和中试生产线,打造国际一流水准专业化、综合型公共研发平台,填补该领域国内平台功能单一的空白。


        材料平台拥有迄今为止国内外最为完善的外延设备体系,已初步建成一条 III 族氮化物的研发和中试线,共有 5 台套针对不同器件应用的专用型 MOCVD 设备,包含了水平常压式、垂直低压式、高温 MOCVD、紧耦合喷淋式(CCS)和高速转盘式(Turbodisc)等各种类型的反应器。同时,平台拥有一支专业的设备研发和工艺开发团队,已承担多项国家重点计划和省重点项目。目前,累计合作和服务国内外高校、研究机构和科创型企业 100 余家。


装备仪器
  • MOCVD (氮化镓基材料与器件开发)

    MOCVD (氮化镓基材料与器件开发)

    材料生长平台-装备仪器

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  • 高温MOCVD(氮化铝基材料与器件开发)

    高温MOCVD(氮化铝基材料与器件开发)

    材料生长平台-装备仪器

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  • PVD AlN(氮化铝缓冲层开发)

    PVD AlN(氮化铝缓冲层开发)

    材料生长平台-装备仪器

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  • 石墨托盘热清洗烤炉

    石墨托盘热清洗烤炉

    材料生长平台-装备仪器

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服务案例