配备高亮度双光源(Cu、Mo)，可进行反射和透射模式成像
①反射形貌术:提供样品表面5~30 μm深处的缺陷信息
②摇摆曲线测量:评估晶体的完美程度
③透射形貌术:整个晶圆整体厚度上的缺陷信息
④截面形貌术:提供样品缺陷在厚度方向上的分布信息

配备高灵敏度和高分辨双相机，最高分辨率2.4μm/px
样品要求:
最大12寸单晶样品，透射像样品厚度