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高质量TEM样品制备
来源: | 作者:佚名 | 发布时间 :2021-09-22 | 618 次浏览: | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ ▶ | 分享到:


FIB制备TEM样品：0.5keV低电压和0.1pA极低束流抛光保证了样品表面非晶损伤层厚度控制在<1nm像。