突破传统限制,新型GaN HEMT实现性能飞跃
金刚石与半导体的“联姻”:开启高功率电子设备散热新篇章
高电压GaN HEMT的创新设计与研究——解锁1200V级高压应用新突破
通过混合外延生长技术制造的 6 kV GaN p-n二极管
2025年12月12-13日,由南京大学集成电路学院、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、国家第三代半导体技术创新中心(苏州)联合主办的“2025材料-器件-系统论坛”在苏州成功举办。【详细】
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